氮化硅靶是一种非常重要的材料，它在半导体工业中有着广泛的应用。纯氮化硅靶是由纯氮化硅制成的，它具有很高的硬度和耐磨性，同时还具有很好的化学稳定性和热稳定性。因此，纯氮化硅靶在半导体工业中被广泛应用于制造各种半导体器件。纯氮化硅靶的制造过程非常复杂，需要经过多道工序才能完成。首先，需要将纯氮化硅粉末放..
日期：2023-05-11
镍具有很好的可塑性、耐腐蚀性和磁性等性能，因此主要被用于钢铁、镍基合金、电镀及电池等领域，广泛用于飞机、雷达等各种军工制造业，民用机械制造业和电镀工业等。由于镍具有较好的耐腐蚀，耐高温，防锈等性能，因此被广泛应用到不锈钢和合金钢等钢铁领域。含镍的不锈钢既能抵抗大气、蒸汽和水的腐蚀，又能耐酸、碱、盐的..
日期：2023-05-06
石墨坩埚，又称熔铜包、熔铜等，是指以石墨、粘土、硅石和腊石为原料烧制而成的一类坩埚。石墨坩埚主要用来熔炼紫铜、黄铜、金、银、锌和铅等有色金属及其合金。石墨坩埚以天然鳞片石墨为主体原料，以可塑性耐火粘土或炭质为粘结剂加工而成，具有耐高温、导热性能强、抗腐蚀性能好，使用寿命长等特点。在高温使用过程中，热..
日期：2023-04-21
纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35u..
日期：2023-04-13
钌靶材是一种用于制造半导体和光学薄膜的材料。它们通常由高纯度钌制成，用于在真空蒸发过程中形成薄膜。钌靶材在制造半导体器件、太阳能电池、光学镜片、显示器、LED、光纤通信和硬盘等领域中具有广泛的应用。钌靶材的高纯度和成本昂贵，回收钌靶材可以节省成本并减少资源浪费。在制造半导体、光学薄膜和其他高科技产品..
日期：2023-04-06
坩埚的型号规格较多，在应用时不受生产规模、批量大小和熔炼物质品种的限制，可任意选择，适用性较强，并可保证被熔炼物质的纯度。1、用后放置干燥处，切忌雨水侵入;使用前须缓慢烘烤到500摄氏度方可使用。2、应根据坩埚容量加料，忌挤得太紧，以免金属发生热膨胀胀裂坩埚。3、取出金属熔液时，最好用勺子舀出，尽量..
日期：2023-03-31
一、用途不同。1、坩埚可以加热不含水的物质，比如熔化非腐蚀性盐类、灼烧沉淀、碳化或灰化某些复杂试样等;2、蒸发皿一般用于蒸发溶液。二、材料不同。1、坩埚的材料必须耐高温，陶瓷的坩埚使用的温度上限约为800度，再高就不行了;而石英的坩埚可以在1000度以上的高温使用。2、蒸发皿通常为普通玻璃制，也有用..
日期：2023-03-24
通俗来说靶材就是目标材料。用于高能激光器件中，不铜功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。用于物理镀膜中的溅镀，主要有金属靶材和陶瓷靶材。主要用于：1、微电子领域在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是最苛刻的。如今12英寸（300衄口）..
日期：2023-03-17
靶材行业呈明显的纵向一体化趋势靶材是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料，是制备功能薄膜的原材料，又称“溅射靶材”，纯度为99.95%以上，更换不同靶材可得到不同的膜系，实现导电或阻挡等功能。靶材产业链涉及金属提纯、靶材制造、溅射镀膜等环节。其中，超高纯金属是靶材的主要上游原材料，成本占比..
日期：2022-07-18
在线客服
400-812-3826
